Реклама на сайте | Помощь сайту   English version | Datasheets 
KAZUS.RU - Электронный портал. Принципиальные схемы, Datasheets, Форум по электронике

Характеристики некоторых фоторезистов применяемых в промышленности

Характеристики некоторых фоторезистов применяемых в промышленности



Раздел: Радиолюбительская технология

Фоторезисты ФП-383 и ФП-383М (ТУ 6-14-632-86)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат.

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более 2,0
4 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 6,0 - 6,5
5 Разрешаюшая способность, мкм, не более 2,0
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,0 - 1,2
7 Число оборотов при нанесении, об/мин 3000,0
8 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 3,0
9 Проявитель 2% раствор в воде Na3PO4

Фоторезист ФП-25 (ТУ 6-14-531-89)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых интегральных приборов и микросхем с глубинным травлением германия и кремния, гальваническим осаждением металлов.

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
5 Разрешаюшая способность, мкм, не более 20,0
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 6 - 8
8 Устойчивость пленки фоторезиста к травителю для кремния (HF+HNO3+CH3COOH - 1:10:1), не менее, минут 14,0
9 Проявитель 0,5% водный раствор КОН

Фоторезист ФП-РН-7С (ТУ 6-36-00206842-27-93)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов, шкал, сеток.

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более 1,5
4 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 2,0 - 2,5
5 Разрешаюшая способность, мкм, не более 2,5
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 0,7 - 1,1
7 Число оборотов при нанесении, об/мин 2500,0
8 Контраст проявления пленки, отн. ед., не менее 90,0

Фоторезист ФП-4-04 марка В (ТУ 6-14-1092-88)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов, больших и сверхбольших интегральных схем с использованием контактного и проекционного экспонирования в области длин волн 300-405 нм. Выпускается трех марок А, В и С

No Характеристики Норма
марка A марка B марка C
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более 2,0 2,0 2,0
4 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 4,5 15,0 21,5
5 Разрешаюшая способность, мкм, не более 2,0 2,0 2,0
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 0,5 1,5 2,0
7 Число оборотов при нанесении, об/мин 3000,0 3000,0 3000,0
8 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 10,0 12,0 15,0
9 Локальная разнотолщинность пленки, нм, не более 20 30 40
10 Светочувствительность, мдж/см2, не более 60 120 150

Фоторезист ФП-27-18БС марка А (ТУ 6-14-424-88)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве печатных плат, микросхем, сеток, шкал, масок с применением гальванической обработки.

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более 17,0 - 20,0
5 Разрешаюшая способность, мкм, не более 100,0
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 2,6 - 3,4
9 Проявитель 0,6% раствор КОН в воде
10 Светочувствительность, мдж/см2, не хуже 150,0

Фоторезисты ФП-051К и ФП-051Т

Фоторезист ФП-051К (ТУ 6-14-920-86) предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве БИС на подложках с рельефом.

Фоторезист ФП-051Т (ТУ 6-14-919-86) предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве больших интегральных схем

No Характеристики Норма
ФП-051К ФП-051Т
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
4 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 55,0 15,5 - 19,5
5 Разрешаюшая способность, мкм, не более 2,0 2,0
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,9 - 2,3 1,3
8 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 30,0 15,0
9 Проявитель 0,6% раствор КОН в воде

Фоторезисты ФН-11Су и ФН-11СКу (ТУ Р-11433386-4-О-92)

Предназначены для реализации фотолитографичексих процессов в производстве интегральных микросхем, масок, гибких выводных рамок на основе фольгированных диэлектриков, печатных микроплат, форм, и других изделий с использованием кислых и щелочных травителей металлов и сплавов (медь, алюминий, нихром и др.), для гальванического осаждения металлов.

No Характеристики Норма
ФН-11Су ФН-11СКу
1 Внешний вид фоторезиста Прозрачная жидкость коричневого цвета
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
4 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 13+3 150+10
5 Разрешаюшая способность, мкм, не более 8,0 8,0
9 Проявитель Уайт-спирит

Все подробности трансферы арсенала 2013 2014 у нас.
 © 2003—2017 «Электронный портал»Обр@тная связь