Реклама на сайте English version  DatasheetsDatasheets

KAZUS.RU - Электронный портал. Принципиальные схемы, Datasheets, Форум по электронике

Новости электроники Новости Литература, электронные книги Литература Документация, даташиты Документация Поиск даташитов (datasheets)Поиск PDF
  От производителей
Новости поставщиков
В мире электроники

  Сборник статей
Электронные книги
FAQ по электронике

  Datasheets
Поиск SMD
Он-лайн справочник

Принципиальные схемы Схемы Каталоги программ, сайтов Каталоги Общение, форум Общение Ваш аккаунтАккаунт
  Каталог схем
Избранные схемы
FAQ по электронике
  Программы
Каталог сайтов
Производители электроники
  Форумы по электронике
Удаленная работа
Помощь проекту

Matsushita и Renesas успешно осваивают 45 нм технологию


Renesas Technology и Matsushita Electric Industrial в своем сотрудничестве по освоению 45-нм технологии подошли к этапу окончания предварительных стадий подготовки и началу опытного производства первых образцов. Подразделение R&D компании Renesas в городе Итами уже развернуло иммерсионную систему неназванного производителя с аргон-фторидным (ArF) лазером и числовой апертурой (numerical aperture, N.A.) 1,0.

История нынешних совместных работ по освоению новых техпроцессов началась в 1998 г., когда свои усилия в этом направлении объединили компании Matsushita и Mitsubishi Electric. Затем, после образования компаниями Mitsubishi и Hitachi совместного предприятия по производству полупроводников Renesas, к последней перешла роль партнера Matsushita по исследованиям и разработке. Благодаря совместной работе R&D подразделений в свое время уже были освоены 130 нм, 90 нм и 65 нм техпроцессы. Проект по освоению 45 нм норм стартовал в октябре 2005 г.

Команда разработчиков высказала намерение учесть при разработке 45 нм техпроцесса новейшие технологии и приемы организации архитектуры чипов, включая «напряженный» за счет внедрения атомов германия кремний и медные проводники с пленками изоляторов между слоями, обладающими низкой относительной проницаемостью. Окончание работ по освоению 45-нм техпроцесса ожидается осенью следующего года, а начало массового производства по новым нормам намечено на апрель 2008 г.


Источник: 3dnews.ru | Дата публикации: 01/08/2006

Предыдущая новость: Самый маленький преобразователь тока для CCD и OLED Следующая новость: Freescale анонсировала двухъядерный 1,5 ГГц процессор

Реклама на сайте


Последние новости    Новости электронной индустрии в формате RSS

[06/02/2019] Конференция в МГТУ им. Баумана «Технологии разработки и отладки сложных технических систем» 2019

[09/05/2018] Грандиозная майская распродажа на Gearbest!

[16/05/2017] С 15 по 17 мая в магазине Gearbest проходит грандиозный флэшсейл

[10/05/2017] Так что же такое Спиннер?

[05/12/2016] Новый Год и Рождество с GearBest!

[29/09/2016] Всемирный День Интернета на GearBest

Читать все новости >>


© 2003—2021 «KAZUS.RU - Электронный портал»